基調講演
「Rapidusが目指す先端半導体製造の現状と課題」
～ 精密プロセスを支える管理・制御技術 ～
講師紹介
Rapidus株式会社 常務執行役員
赤堀 浩史 （あかほり ひろし） 氏
1993年に株式会社東芝に入社後、半導体事業の研究開発部門にて、生産技術（ユニットプロセス・インテグレーション・検査計測）・先端デバイスの開発を担当。2017年に東芝四日市工場（現・キオクシア株式会社 四日市工場）の生産技術部長として、生産技術、歩留改善業務に加え、2019年より副工場長としてビッグデータを活用した半導体製造のスマート化に取り組む。2021年より、同社の全体のDX化推進を担当。2024年に日本セミラボ株式会社の副社長を経て、同年6月にRapidus株式会社に入社し、現職に就く。現在は北海道千歳市の開発拠点であるIIMのオペレーションを担当。
博士（工学）東北大学。名古屋大学低温プラズマ科学研究センター、客員教授。
講演概要
先端デバイスの製造においては、原子・分子レベルに及ぶ極めて高い精度と、そのプロセス再現性が求められます。本講演では、その実情を概観するとともに、精密プロセスを実現する上で、不可欠となる「管理する技術」、そして「制御する技術」の重要性について解説いたします。しかしながら、その実現には多くの技術的な課題が存在します。その課題を具体的にお伝えすると共に、アカデミア並びに学会との連携が果たす大きな役割と、その期待について述べます。さらに、Rapidusが描く半導体産業の未来像にも触れ、産業全体が向かうべき方向性について展望いたします。
シンポジウム
「半導体製造装置開発の最前線」
～ 業界トップクラスの技術者が登壇 技術をわかりやすく解説します ～
プログラム
開催概要
| 開催日： | 2026年3月17日（火） |
| 時 間： | 13:30～14:30 基調講演 14:30～16:00 シンポジウム（予定） |
| 会 場： | 埼玉大学 全学講義棟１号館 3F 301 |
| 参加費： | 無料（会員、非会員）、事前申込制 |
連携企画
新技術講演会（同日 16:15～18:00）
同会場にて「新技術講演会（精密工学会技術賞受賞講演）」を予定しています。
参加申込方法
申込期限
2026年3月4日（水）
※ 事前申込受付を締切りました。参加希望者は、当日、講演会場前の受付へおこしください。